日光温室蔬菜冬季生产,地温管理是保障植株旺盛生长的关键环节。地温低常常是制约日光温室越冬茬黄瓜正常生产的一个重要因素,不仅影响植株根系正常生长、容易早衰、肥料吸收利用率低,而且产生茎变细、化瓜、弯瓜、笼头变小等症状,导致大量减产。
直接因素是种植密度大、土壤粘重、浇水量大、连续阴雨天等,但根本原因是日光温室结构不合理,采光、蓄热和保温性能差,温室晚上的热量散失太多,导致温室的气温和地温下降。另外,多数农户只测气温,不测地温,尽管知道地温低对黄瓜生产有影响,但是地温是多少却不知道、黄瓜根系正常生长需要的地温是多少也不清楚,因此,许多农户不知道如何有效的管理和提升地温。
很简单,把温度计插到黄瓜根系附近,最好是温室的前中后都插一根温度计,温度计插15厘米深,早晨打起保温被后看地温是多少。
目前日光温室越冬茬黄瓜栽培,绝大多数选用南瓜砧木嫁接,要想让植株正常生长,最佳的地温在20℃-25℃,夜间绝对不能低于15℃,否则严重抑制根系生长,造成根系早衰。
有些农户认为闷高温才能快速提高地温,就把温室温度闷到40℃左右,并持续很长的时间,但是土壤热惰性大, 直接从空气中获得热量,并把热量保存在土壤中传热的效率很低。所以闷高温不是一个有效提高地温的方法。而且,如果黄瓜长时间处于35℃以上高温,会影响植株的生长,导致叶片异常和畸形瓜过多等现象。而让阳光尽量多的照射到地面,使土壤接收更多的太阳辐射,太阳辐射转化为热能被土壤保存,这样才能够有效的提高地温。但是,加强保温被的厚度和严密性、增强整个温室的保温性能、减少夜间热量损失,是提高地温的重要前提条件。
提高地温的主要方法:
1经常擦拭棚膜或者使用清洁带,保持棚膜干净光亮,提高透光率。作者:李惊宇、孙周平
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