摘要: 为探究不同栽培方式对西瓜根区温度和产量的影响,本研究对垄沟基质栽培、沟槽基质栽培和膜上基质栽培3种不同的栽培方式进行对比试验。结果表明,3种栽培方式根区日温度变化均呈S形曲线,日平均温度在22.0~22.3℃,处理间日均温度相差不大;西瓜中心糖度以垄沟基质栽培最高;膜上基质栽培和垄沟基质栽培方式西瓜产量较高。因此,膜上基质栽培和垄沟基质栽培是西瓜较为适宜的基质栽培方式,其中垄沟基质栽培因水肥管理方便、用工少,农户易接受,具有更广泛的应用前景。
关键词: 西瓜, 基质栽培, 温度, 产量
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杨娜, 杨志国, 王珂, 张建诚, 徐隽铭, 席吉龙. 设施西瓜不同基质栽培方式比较试验[J]. 农业科技通讯, 2023, 0(7): 112-114.
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