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红豆杉的培育方法与流程

本发明涉及园林植物培育领域,更具体地说它涉及一种红豆杉的培育方法。

背景技术:

红豆杉(taxus),是世界上公认的濒临灭绝的天然珍稀抗癌植物,是第四纪冰川遗留下来的古老树种,在地球上已有250万年的历史。中国已将其列为一级珍稀濒危保护植物,联合国也明令禁止采伐。

在园林绿化,室内盆景方面也具有十分广阔的发展前景,如利用珍稀红豆杉树制作的高档盆景。应用矮化技术处理的红豆杉盆景造型古朴典雅,枝叶紧凑而不密集,舒展而不松散,红茎、红枝、绿叶、红豆使其具有观茎、观枝、观叶、观果的多重观赏价值。

利用种子繁育红豆杉人工林是一条缓解红豆杉资源严重不足的有效途径。但由于红豆杉种子的休眠期较长,在自然条件下需要两冬一夏才能萌发,大量的种子在休眠期内会丧失活力,从而限制了红豆杉人工林资源的开发利用。如何提高种子的出芽率成为红豆杉种苗培育中亟待解决的问题。

技术实现要素:

针对现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种红豆杉的培育方法,其优点在于提高了种子的出芽率。

为实现上述目的,本发明提供了如下技术方案:一种红豆杉的培育方法,其特征在于:包括以下步骤:

a.种子采集:

在10月中下旬,采种种皮呈深红色的果实;种子收集后,处理种子种皮;

b.种子贮藏:

变温层积处理,种子先在低温层积100至120天,再在暖温积尘150至170天,最后在低温中层积90至110天;

c.苗床准备:

选择育苗地,施用基肥,并将基肥与育苗地土壤反复耙匀后,把育苗地整成畦宽1.2米、高15至20厘米的圃地;

d.种子催芽:

将种子浸泡于消毒液中10至20分钟,接着用植物激素催芽24至48小时,而后移入温室;

e.播种:

在圃地内压制深2厘米、间距为20厘米的播种沟,以5厘米×10厘米株行距点播,然后用筛过的草木灰和细土覆盖种子,再在圃地上搭建拱棚,拱棚上覆盖遮阳率为70至85%遮阳网;

f.田间管理:

对圃地进行日常灌溉、追肥和病虫害管理,保持圃地处于温度为5至32摄氏度,湿度为70%至80%;10月停止施肥,并除去遮阳网。

通过采用上述技术方案,先低温后高温再低温的变温层积处理,使得红豆杉种子经过两冬一夏的层积处理。室内层积由于温度可控,红豆杉种子出苗率明显优于室外林下自然温度播种的出苗率。使得南方红豆杉经过长时间的冷暖变温层积,种胚在完成其形态发育的同时,生理生化功能亦渐趋完善。因此在红豆杉种子功能发育完全后,依次经过苗床准备、种子催芽、播种和田间管理,实现红豆杉种子的出芽率,将高于普通贮存的红豆杉种子。

本发明进一步设置为:在步骤b中,变温层积处理之前,使用0.2%的高锰酸钾浸种消毒30分钟。

通过采用上述技术方案,使用0.2%的高锰酸钾浸种消毒,能够有效的去除种子表面的微生物,降低种子因为上时间贮存而发霉的概率。

本发明进一步设置为:在步骤b中,低温层积选用4至7℃,所述暖温层积选用26至29℃。

通过采用上述技术方案,4至7℃的低温层积,属于较适合红豆杉种子模拟冬天的温度;26至29℃属于较适合红豆杉种子模拟夏天的温度;因此在上述的温度范围下,能够更加适应于种子的形态发育,提升种子萌发率。

本发明进一步设置为:在步骤b中,层积的基质采用质量比为2:1的珍珠岩和泡沫塑料颗粒。

通过采用上述技术方案,珍珠岩和泡沫塑料颗粒均具有良好的透气性,有利于红豆杉种子发育;而通过珍珠岩和泡沫塑料颗粒混合利于种子固定。

本发明进一步设置为:在步骤c中,育苗地选择阴坡中性或微酸性肥沃疏松的土壤。

通过采用上述技术方案,红豆杉喜阴,因此在阴坡中性或微酸性肥沃疏松的土壤更加适合红豆杉的成长。

本发明进一步设置为:在步骤c中,所述基肥为猪粪、牛粪、家禽粪一种或几种混合后拌入呋喃丹。

通过采用上述技术方案,猪粪、牛粪、家禽粪容易获得且成本交底,使用后能够有效提升土壤的肥力;而呋喃丹是氨基甲酸酯类广谱内吸杀虫杀螨杀线虫剂,可用于多种作物防治土壤内及地面上的300多种害虫和线虫。并有缩短作物生长期、促进作物生长发育从而有效提高作物产量的作用。

本发明进一步设置为:在步骤c中,所述圃地在播种前8天,每平方米用40%福尔马林50毫升,加水15升,洒在土壤上,并用薄膜覆盖,直至播种前3天揭去。

通过采用上述技术方案,福尔马林与水的混合液,能有效地杀死细菌繁殖体,以及抵抗力强的结核杆菌、病毒。

本发明进一步设置为:在步骤d中,消毒液为体积比1:1的60°酒精与40℃温水的混合液。

通过采用上述技术方案,60°酒精与40℃温水对种子的伤害小且能够达到对种子杀菌的效果。

本发明进一步设置为:在步骤d中,植物激素为90mg/l的赤霉素溶液。

通过采用上述技术方案,红豆杉种子具有深休眠的特性,赤霉素溶液浸泡能够有效缩短育苗周期,提高种子的开裂率和出苗率;而90mg/l的赤霉素溶液对种子的促进作用优于其他浓度。

本发明进一步设置为:在步骤a中,种子种皮处理方式包括:将种子放入清水中浸泡半小时,再放入55%的浓硫酸浸泡四小时,用流水洗净、晾干。

通过采用上述技术方案,红豆杉的种子外种皮由石细胞层、木栓层和蜡质不透水层构成,中种皮为透水性很差的木栓层,内种皮膜质,这种结构的种皮严重地阻止红豆杉的种子水分吸收和气体交换,成为红豆杉种子萌发的一层障碍。而用55%硫酸溶液浸泡4h在一定程度上消除种皮的阻碍作用,使种子充分吸收水分,同时也增加了外种皮的透气性,降低了氧气交换的限制,使抑制物被氧化分解,增强分生组织的活化能力;同时使用55%硫酸溶液浸泡红豆杉种子,相比于现有技术中使用摩擦去除种皮的方式;可控性更高,且操作更为方便。

综上所述,本发明具有以下优点:

1、使用55%硫酸溶液浸泡红豆杉种子,相比于现有技术中使用摩擦去除种皮的方式;可控性更高,且操作更为方便;

2、层积由于温度可控,红豆杉种子出苗率明显优于室外林下自然温度播种的出苗率。

具体实施方式

以下对本发明作进一步详细说明。

实施例,一种红豆杉的培育方法,其具体步骤为:

a.种子采集:

1、在10月中下旬,采种种皮呈深红色的果实;

2、种子收集后,将种子放入清水中浸泡半小时,再放入55%的浓硫酸浸泡四小时,用流水洗净、晾干。

具体的,红豆杉的种子外种皮由石细胞层、木栓层和蜡质不透水层构成,中种皮为透水性很差的木栓层,内种皮膜质,这种结构的种皮严重地阻止红豆杉的种子水分吸收和气体交换,成为红豆杉种子萌发的一层障碍。

用55%硫酸溶液浸泡4h,在浓硫酸的化学作用下一定程度上消除种皮的阻碍作用,使种子充分吸收水分,同时也增加了外种皮的透气性,降低了氧气交换的限制,使抑制物被氧化分解,增强分生组织的活化能力。相比于现有技术中使用摩擦去除种皮的方式;使用55%硫酸溶液浸泡红豆杉种子,可控性更高,且操作更为方便,更适宜用于大量种子的种皮处理。

b.种子贮藏:

1、使用0.2%的高锰酸钾浸种消毒30分钟;

2、变温层积处理,种子先在低温层积100至120天,再在暖温积尘150至170天,最后在低温中层积90至110天;

3、每隔1个月层积内翻动1次,如发现霉烂种子,及时剔除。

具体的,低温层积选用4至7℃,暖温层积选用26至29℃。优选的,低温层积选用6℃,暖温层积选用26℃。层积的基质采用质量比为2:1的珍珠岩和泡沫塑料颗粒。珍珠岩和泡沫塑料颗粒均具有良好的透气性,有利于红豆杉种子发育。

c.苗床准备:

1、选择育苗地,育苗地选择阴坡中性或微酸性肥沃疏松的土壤;

2、施用基肥,并将基肥与育苗地土壤反复耙匀;

3、把育苗地整成畦宽1.2米、高15至20厘米的圃地。

具体的,育苗地的ph值在5.6至7。基肥为猪粪、牛粪、家禽粪一种或几种混合后拌入呋喃丹。其中,每亩地施入腐熟的猪粪、牛粪、家禽粪3000公斤。

另外,圃地在播种前8天,每平方米用40%福尔马林50毫升,加水15升,洒在土壤上,并用薄膜覆盖,直至播种前3天揭去。

d.种子催芽:

1、将种子浸泡于体积比1:1的60°酒精与40℃温水的混合液中10至20分钟消毒;

2、用90mg/l的赤霉素溶液催芽24至48小时,而后移入温室;

优选的,消毒时长为12分钟,赤霉素溶液催芽时长为25小时。

e.播种:

1、划线。在圃地内,以20厘米为间距划直线,以便于播种和管理;

2、开沟。在划线处开宽4至5厘米的播种沟,播种沟的深度在2厘米;

3、播种。一般选择在阴天,下种时,以5厘米×10厘米株行距点播,保证种子在播种沟内分布均匀;

4、覆土。用比例为1:3筛过的草木灰和细土覆盖种子,厚度在1.5至1.8厘米,并在覆土后,进行轻微镇压;

5、搭建拱棚。拱棚高1.8米,且拱棚上覆盖遮阳率为70至85%遮阳网。

f.田间管理:

1、灌溉。若夏季气温高,在早上或傍晚进行灌溉。以降低苗圃地田间气温,促进根对养分的吸收。每次灌溉之间相隔7至10天;

2、追肥。南方红豆杉苗木生长前期用0.2%的尿素,每隔一月施一次。中后期采用大量氮(n)、磷(p)、钾(k)等大量元素的化肥,在生长后期主要采用钾肥以及磷肥。施肥要求在雨季或者施肥之后进行水灌溉;

3、病虫害管理。红豆杉苗期易感染病菌而发生根腐和猝倒病,出现病害用0.2%多菌灵和0.1%三唑酮混用防治。出现蛴螬、地老虎等虫害,用40%氧化乐果乳油和25%硫磷乳剂溶液交底喷灌防治;出现蚜虫或蜘蛛侵害,实用敌敌畏或乐果防治;

4、除草。除草为见草就除,每次除草结合追肥。同时,除草松土,改善土壤的通气条件;

5、温湿度控制。保持圃地处于温度为5至32摄氏度,湿度为70%至80%;10月停止施肥,并除去遮阳网。

g.出圃:

将1年生苗高20至30厘米、地径粗0.3厘米、侧枝3至5个就可出圃。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用于限制本发明,凡在本发明的设计构思之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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