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铁皮石斛的种植方法与流程

技术总结
本发明公开了一种铁皮石斛的种植方法,包括:步骤一、提供温室大棚环境,进行铁皮石斛的种植,温室大棚内被划分为多个种植区域,每个种植区域内均设置有一罩部,罩部包括一设置于地面上的升降机构和设置于升降机构顶端的罩体,罩体采用不透光材料,罩体在升降机构的驱动下罩住其所在的种植区域;步骤二、取原料制成铁皮石斛的培养基质;步骤三、首先于温室大棚内铺设培养基质,将铁皮石斛种子播种于培养基质中,于光照温度22~28℃、黑暗温度20~22℃,光周期8~16小时/日,光照度800~2000lx和湿度50~70%条件下培养1年,得到铁皮石斛小苗;步骤四、于温室大棚内铺设培养基质,之后将铁皮石斛小苗移栽至该30~40cm的培养基质中,培养1~2年,得到铁皮石斛。

技术研发人员:农凯峰
受保护的技术使用者:农凯峰
文档号码:201710168464
技术研发日:2017.03.21
技术公布日:2017.08.18

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